Unstress - Optimal Hydration Mask - Оптимально увлажняющая маска

Быстро уменьшает зуд, раздражение и чувство дискомфорта, возвращая коже комфорт и мягкость. Улучшает текстуру, делает кожу более гладкой, эластичной и ухоженной.

Укрепляет роговой слой и глубоко насыщает кожу влагой, предотвращая сухость и обезвоживание.

Подходит для восстановления чувствительной, сухой и обезвоженной кожи, помогая поддерживать ее здоровое и ровное состояние.

ПРИМЕНЕНИЕ
Нанесите маску равномерным слоем на кожу лица, шеи и декольте. Оставьте на 10 минут, после чего выполните легкий массаж до полного впитывания средства. Остатки удалите влажным полотенцем.

Deionized water (Aqua), Cetearyl Ethylhexanoate, Caprylic/Capric Triglyceride, Glycerin, Phenoxyethanol, Carbomer, Stearyl Alcohol, Triethanolamine, Tocopheryl Acetate, Chlorphenesin, Alpha-Glucan Oligosaccharide, Ethylhexylglycerin, Collagen, Linoleic Acid, Sodium hyaluronate, Triticum Vulgare (Wheat) Germ Oil, Perfume, Polymnia Sonchifolia Root Juice, Oleic Acid, Propylene Glycol, Butylene Glycol, Maltodextrin, Olive Glycerides, Plukenetia Volubilis Seed Oil, Honey Extract, Sodium PCA, Caprylyl Glycol, 1,2-Hexanediol, Linum Usitatissimum(Linseed) Seed Extract, Ceramide NP, Polyglyceryl-5 Oleate, Sodium Benzoate, Lactobacillus, Hydrolyzed Elastin, cyanocobalamin, FD&C Blue NO. 1 (CI 42090), Linolenic Acid, Glycogen, Serine, Sorbic Acid, Tocopherol, FD&C Yellow NO. 5 (CI 19140), Benzyl Salicylate, Dipeptide-4