Unstress - Replenishing mask - Восстанавливающая маска

Уменьшает покраснение, раздражение и следы усталости, выравнивает тон и возвращает коже здоровое сияние уже с утра. Поддерживает восстановление защитного барьера и укрепляет кожу.

Глубоко увлажняет, питает и смягчает, устраняет сухость и повышает эластичность. Способствует регенерации, делает кожу более гладкой, свежей и ухоженной.

Идеально подходит для чувствительной, обезвоженной и стрессированной кожи в качестве интенсивной восстанавливающей маски.

Нанесите однородным слоем на кожу лица, шеи и декольте. Оставьте на 10 минут. Удалите с помощью влажного полотенца.

Deionized water (Aqua), Cetearyl Ethylhexanoate, Glycerin, Cetearyl Alcohol, Zinc carbonate (CI 77950), Thermus Thermophillus Ferment, Cyclopentasiloxane, Cetearyl Glucoside, Butyrospermum Parkii Butter, Dimethicone, Stearyl Alcohol, Cetyl Alcohol, Phenoxyethanol, Saccharide Isomerate, Acrylates/C10-30 Alkyl Acrylate Crosspolymer, Polysilicone-11, Chlorphenesin, Triethanolamine, Cucumis Sativus (Cucumber) Fruit Extract, Butylene Glycol, Sodium hyaluronate, Tocopheryl Acetate, Allantoin, Isohexadecane, Ethylhexylglycerin, Sodium Acrylate/Sodium Acryloyldimethyl Taurate Copolymer, Glucose, Linoleic Acid, Perfume, Oleic Acid, Plumeria Alba Flower Extract, Iron Oxide (CI 77492), 1,2-Hexanediol, Caprylyl Glycol, Polysorbate 80, Ammonium Polyacryloyldimethyl Taurate, Sodium Benzoate, Magnesium Ascorbyl Phosphate, Arbutin, Polysorbate 20, Sorbitan Oleate, Potassium Sorbate, Sodium Metabisulfite, Citric Acid, Sodium Citrate, Linolenic Acid, Sorbic Acid, Tocopherol, Benzyl Salicylate